IT之家12月13日消息，尼康本月11日宣布该企业正在加速推进新一代半导体工艺设备锐布Litho Booster1000对准站的开发工作，计划于2026年下半年正式上市。
锐布Litho Booster1000能够在曝光工艺前对晶圆进行高精度测量，并将补正值前馈给光刻机，从而大幅提升套刻精度。其相较上代对准站实现了更高精度的多点及绝对值测量。
先进制程半导体的3D立体化是大势所趋。在利用多台光刻机进行多层结构曝光的制造工艺中银河证券，尤其是在晶圆对晶圆(WoW)键合环节，晶圆极易发生形变或位移现象。而可兼容不同厂商光刻机的Litho Booster1000能进一步提升这一过程的良率。
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